PREVAC 脈沖激光沉積系統(tǒng) PLD系統(tǒng) 沉積系統(tǒng) 表面科學和材料研究 ARPES、IBS、磁控濺射和 MBE 納米結(jié)構(gòu)層

標準PLD系統(tǒng)

PREVAC 標準 PLD 系統(tǒng)包括一個沉積工藝室和一個負載鎖定室,用于輕松快速地加載基板。?

脈沖激光沉積 (PLD) 獨立系統(tǒng)適用于異磁膜、陶瓷氧化物、高溫超導材料金屬多層膜等的生長。?

高級PLD系統(tǒng)

PREVAC 定制的 PLD 系統(tǒng)是復雜的 UHV 平臺,可以作為更大的集成研究系統(tǒng)的一部分提供。

PLD 研究模塊可以與一系列分析和沉積技術(shù)相結(jié)合,為表面科學和材料研究創(chuàng)建多功能設計。隨附的技術(shù)列表包括 ARPES、IBS、磁控濺射MBE。

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iPLD系統(tǒng)

自主 iPLD 站用于納米結(jié)構(gòu)層的生產(chǎn)和實時監(jiān)測。它提供了一個使用激光燒蝕的全自動應用材料的過程。使用該項目產(chǎn)生的工作站,除其他外,還可以創(chuàng)建多功能、保護和空間納米層。


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