TES單腔式ECR等離子體源
Polygon Physics公司的TES是緊湊型ECR離子源系列，專為超高真空（UHV）或高真空（HV）環(huán)境下的表面科學(xué)與處理設(shè)計，可產(chǎn)生離子、等離子體、電子或原子束流。憑借可選的多種引出系統(tǒng)及可定制化束流光學(xué)配置，TES是真正的多功能離子源解決方案。
應(yīng)用：
蝕刻
濺射
成形加工
表面改性與活化
電子化學(xué)
中和處理
優(yōu)勢
隨時間穩(wěn)定性
緊湊性
維護簡化，無燈絲設(shè)計，無需冷卻
即插即用
獨立電子機架，可定制化
| TES-40 | electrons-neutralizer | ions-broad beam | ions-high brightness |
|---|---|---|---|
| Applications | Electron chemistry, neutralization | Etching, sputtering, surface activation | Etching, figuring, sputtering, surface activation |
| Energy range | 0.1 – 5 kV | 0.1 – 5 kV | 0.5 – 5 kV |
| Current | 0.1 to 50 mA | 0.3 to 3 mA | 10 to 500 μA |
| Beam size (typ. @ 4 cm) | 3-30 mm | Energy dependent | 0.3 to 15mm |
| Insertion depth | 137 mm / 190 mm with Einzel | 137 mm | 190 mm with Einzel |
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