Polygon physics多功能表面處理系統(tǒng)
“一源多用”的表面處理解決方案。Polygon Physics為科研領(lǐng)域提供集成化系統(tǒng)：單臺設(shè)備即可在不破壞真空的條件下，對同一樣品進行多道表面處理工序。

緊湊型科研系統(tǒng)實現(xiàn)多步驟表面處理
圖示：配備離子源與200mm交叉腔體的多功能表面處理系統(tǒng)

▌離子束濺射沉積
支持多層膜沉積（配置兩種不同濺射靶材）
▌濺射清洗
增強薄膜附著力
▌納米結(jié)構(gòu)加工
改變表面特性（如吸光性、裝飾性、粘附性）
▌低能離子注入
最高30kV能量

在薄膜沉積前清潔樣品，或在保護涂層制備前進行表面納米結(jié)構(gòu)化處理，亦可沉積兩種不同材料的薄膜——我們的多功能系統(tǒng)讓這些復(fù)雜流程一氣呵成。

系統(tǒng)具備卓越的工藝參數(shù)靈活性：
? 離子源擁有寬廣的束流能量、離子電流及束形調(diào)節(jié)范圍
? 濺射靶材與膜厚監(jiān)控儀安裝于可旋轉(zhuǎn)伸縮軸上
? 樣品臺配備長度可調(diào)的旋轉(zhuǎn)伸縮臂，適配不同工藝模式

圖示：系統(tǒng)內(nèi)部工作狀態(tài)，展示發(fā)散氬離子束在?30mm范圍內(nèi)進行納米結(jié)構(gòu)加工

單系統(tǒng)多工作模式

樣品清洗與納米加工模式
樣品旋轉(zhuǎn)至束流路徑，濺射靶材與膜厚儀處于收回狀態(tài)

束流校準模式
樣品移出束流路徑，靶材與膜厚儀收回，離子束直接進入法拉第杯測量束流并計算樣品區(qū)平均電流密度

薄膜沉積模式
靶材進入束流路徑，樣品處于沉積位，膜厚儀收回

沉積速率校準模式
靶材就位，樣品旋轉(zhuǎn)至沉積位，膜厚儀（FTM）置于樣品與靶材之間