HEXAR寬束ECR離子源
HEXAR-7 ETCHER等離子刻蝕系統(tǒng)及ECR中和器實(shí)物圖

Polygon Physics公司HEXAR是一款專為真空表面處理設(shè)計(jì)的寬束離子源。該模塊化設(shè)計(jì)理念使其能適配不同尺寸的表面處理需求，典型應(yīng)用包括：
? 離子束刻蝕
? 表面清潔
? 離子輔助沉積
? 離子束濺射沉積

工作原理
HEXAR采用六邊形陣列微型微波腔體結(jié)構(gòu)，每個(gè)腔體僅需數(shù)瓦級(jí)超低射頻功率（2.45GHz）即可維持ECR放電。其技術(shù)優(yōu)勢(shì)在于：
? ECR等離子體卓越的穩(wěn)定性與可靠性
? 零耗材設(shè)計(jì)
? 通過(guò)氣體流量、電極電壓和射頻功率的協(xié)同調(diào)控，實(shí)現(xiàn)傳統(tǒng)寬束源無(wú)法企及的束流密度分布可編程控制

模塊化擴(kuò)展技術(shù)
處理面積隨腔體數(shù)量線性擴(kuò)展。如需處理更大尺寸基板，歡迎聯(lián)系我們，或訪問(wèn)定制束流解決方案頁(yè)面了解多腔體架構(gòu)的更多可能性。

中和器選項(xiàng)
針對(duì)非導(dǎo)電基板的離子處理，可配備ECR電子中和器以消除表面電荷積累。該中和器：
? 采用與HEXAR同源的緊湊型ECR技術(shù)
? 單微波腔體即可完全中和正離子電流
? 無(wú)燈絲等易損件設(shè)計(jì)

應(yīng)用場(chǎng)景
通過(guò)調(diào)整光學(xué)系統(tǒng)、單腔射頻功率及腔體數(shù)量，HEXAR可滿足不同應(yīng)用需求：
→ 刻蝕加工
→ 表面清潔
→ 表面改性
→ 離子輔助沉積
→ 離子束濺射沉積
更多應(yīng)用案例請(qǐng)參見(jiàn)專題頁(yè)面

技術(shù)參數(shù)
標(biāo)準(zhǔn)配置包含：
? 19英寸機(jī)架式控制系統(tǒng)
? SMA接口高壓電纜
? 電源線及控制軟件
需另行配置氣源、6mmSwagelok接口冷卻系統(tǒng)及控制電腦

Polygon physics等離子刻蝕系統(tǒng)、HEXAR寬束離子源