TES單腔式ECR等離子體源
Polygon Physics公司的TES是緊湊型ECR離子源系列，專為超高真空（UHV）或高真空（HV）環(huán)境下的表面科學(xué)與處理設(shè)計(jì)，可產(chǎn)生離子、等離子體、電子或原子束流。憑借可選的多種引出系統(tǒng)及可定制化束流光學(xué)配置，TES是真正的多功能離子源解決方案。
應(yīng)用：
刻蝕
濺射
成形加工
質(zhì)譜分析
加速器
束流傳輸線
電子化學(xué)
優(yōu)勢(shì)
高亮度系統(tǒng)
高功率電子束
長(zhǎng)期穩(wěn)定性
結(jié)構(gòu)緊湊
連續(xù)波/脈沖雙模式
免維護(hù)、無(wú)燈絲、無(wú)需冷卻
即插即用
獨(dú)立電子機(jī)架系統(tǒng)
| TES-63 | electrons | ions | ions-high brightness | ions-scanner |
|---|---|---|---|---|
| Applications | Electron chemistry (down to 100 V) / High power e-beam up to 1.5 kW | Beam line, accelerator, mass spectroscopy, sputtering | Beam line, accelerator, mass spectroscopy, etching | Etching, Figuring |
| Energy range | 100 V – 15 kV | 0.5 – 15 kV | 0.5– 15 kV | 0.5 – 15 kV |
| Current | 0.1 to 5 μA – typ. with 0.3 mm extractor 10 to 500 μA – typ. with 3 mm extractor | 0.3 to 300 μA | 10 to 500 μA | |
| Beam size (typ. @ 10 cm from Einzel) | Energy and focus dependent | 0.3 -30 mm | 0.5-5 mm | 0.3 to 5mm |
| Insertion depth | from 150 mm or longer on demand | from 150 mm or longer on demand | 300 mm with Einzel | 360 mm with Einzel and scanner |
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