TES單腔式ECR等離子體源
Polygon Physics公司的TES是緊湊型ECR離子源系列，專為超高真空（UHV）或高真空（HV）環(huán)境下的表面科學(xué)與處理設(shè)計，可產(chǎn)生離子、等離子體、電子或原子束流。憑借可選的多種引出系統(tǒng)及可定制化束流光學(xué)配置，TES是真正的多功能離子源解決方案。
應(yīng)用
蝕刻
濺射
修形
表面改性與活化
電子化學(xué)
中和
束線
優(yōu)勢
真空環(huán)境移動
長期穩(wěn)定性
緊湊設(shè)計
維護簡化，無燈絲，無需冷卻
即插即用
獨立電子機架，可定制
| TES-GO | ions-high brightness | ions-broad beam | electrons-neutralizer |
|---|---|---|---|
| Applications | Etching, figuring, sputtering, surface activation, beam line | Etching, sputtering, surface activation | Electron chemistry, neutralization, surface modification |
| Energy range | 0.5 – 5 kV | 0.1 – 5 kV | 0.1 – 5 kV |
| Current | 10 to 500 μA | 0.3 to 3 mA | 0.1 to 50 mA |
| Beam size (typ. @ 4 cm) | 0.3 to 15mm | Energy dependent | 3-30 mm |
| Source length (exc. connectors) | 192 mm with Einzel | 150 mm | 150 mm / 192 mm with Einzel |
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