LK 2000

LK2000 HREELS 儀器已在全球工業(yè)和學術實驗室中得到廣泛使用。它已成功應用于各種問題，包括金屬上的碳氫化合物化學吸附（催化）、硅晶片清潔技術分析、表面等離子體、聚合物膜的表征、C₆₀電影研究，以及無數其他的。

• 3 meV （FWHM） 及以下的分辨率
• 可旋轉和固定光學模型
• 一體式雙磁屏蔽，實現(xiàn)簡單的“螺栓固定”安裝