Kimball Physics 離子槍系統(tǒng)或離子源
Kimball Physics 離子槍系統(tǒng)或離子源用于表面物理、空間物理、真空物理、電荷中和、檢測校準、二次離子質譜和 MBE 離子注入。
性能
- 束流穩(wěn)定性：對于堿金屬源，使用發(fā)射電流控制時每小時 ±1.0%，或在沒有 ECC 的情況下預熱后每小時 ±10%。
- 能量穩(wěn)定性：±每小時 0.01%，±滿負荷時每 8 小時 0.02%。
運營能力
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