Harrick漫反射附件，Harrick原位池，Praying Mantis紅外原位附件，通過傅里葉和紫外可見光譜法對固體和粉末進行漫反射分析，以及在溫度和/壓力控制的環(huán)境中對催化劑和粉末進行分析
Harrick 低溫反應(yīng)室 CHC-CHA-5，CHC-VUV-5, 工作溫度范圍-150°C to 600°C（真空下），非常適合在精確控制的溫度和壓力下研究多相催化、氣-固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)和氧化機制方面的應(yīng)用
Harrick HVC-DRP-5 高溫反應(yīng)室，HVC-DRM-5 高溫反應(yīng)池，HVC-VUV-5紫外高溫反應(yīng)室，原位高溫附件，HARRICK原位漫反射, 高溫反應(yīng)池，紅外光譜儀催化反應(yīng), 原位池，高溫反應(yīng)室，原位紅外池，HVC-DRP-5 紅外漫反射高溫反應(yīng)室，用于從室溫到910℃（真空下）對粉末進行漫反射光譜分析，可用于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)等分析應(yīng)用
Harrick TGC 氣體池，溫控氣體池, HARRICK 氣體池，氣體透射池，透射氣體池，短光程溫控氣體池，紅外透射附件，用于在靜態(tài)或流動環(huán)境中對氣體和氣體混合物進行透射光譜檢測
Harrick HVC-DRP-5 高溫反應(yīng)室，HVC-DRM-5 高溫反應(yīng)池，HVC-VUV-5紫外高溫反應(yīng)室，原位高溫附件，HARRICK原位漫反射, 高溫反應(yīng)池，紅外光譜儀催化反應(yīng), 原位池，高溫反應(yīng)室，原位紅外池，HVC-DRP-5 紅外漫反射高溫反應(yīng)室，用于從室溫到910℃（真空下）對粉末進行漫反射光譜分析，可用于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)等分析應(yīng)用
HARRICK 高溫反應(yīng)室，高溫池，原位高溫附件，HARRICK原位漫反射, HVC-DRM-5 高溫池，高溫反應(yīng)池，紅外光譜儀催化反應(yīng), 原位池，高溫反應(yīng)室，原位紅外池，HVC-DRP-5 紅外漫反射高溫反應(yīng)室，HVC-VUV-5紫外高溫反應(yīng)室，用于從室溫到910℃（真空下）對粉末進行漫反射光譜分析，可用于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)等分析應(yīng)用
Harrick HTC-3-XXX 高溫透射池，高溫池，透射池，固體透射測量池，Harrick 高溫池，Harrick?HTC-3-XXX高溫透射池可從環(huán)境溫度到超過500°C的溫度范圍內(nèi)對固體樣品進行透射測量研究，是檢測催化和其他氣固化學(xué)相互作用的理想設(shè)備
Harrick HTC-3-XXX 高溫池，高溫透射池，紅外透射附件，從環(huán)境溫度到超過500°C的溫度范圍內(nèi)對固體樣品進行透射測量研究，是檢測催化和其他氣固化學(xué)相互作用的理想設(shè)備
Harrick 電池反應(yīng)池，電解液反應(yīng)室，高溫反應(yīng)室適配器，電化學(xué)適配器，原位電池極片反應(yīng)池，適用于研究樣品上的光譜電化學(xué)變化，如太陽能電池、固體燃料電池、半導(dǎo)體、電極、催化劑
Harrick HVC-DRM-5 高溫池，高溫反應(yīng)池，原位池，高溫反應(yīng)室，原位紅外池，HVC-DRP-5 紅外漫反射高溫反應(yīng)室，HVC-VUV-5紫外高溫反應(yīng)室，用于從室溫到910℃（真空下）對粉末進行漫反射光譜分析，可用于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)等分析應(yīng)用
Harrick HTC-3-XXX 固體高溫透射附件， 紅外透射附件，High Temperature Cell，透射樣品艙，紅外透射附件，透射附件，允許在500°C以上的環(huán)境溫度下對固體樣品進行光譜研究
harrick HVC-DRM-5 高溫反應(yīng)室 HVC-DRP-5 紅外漫反射高溫反應(yīng)室，HVC-VUV-5紫外高溫反應(yīng)室，用于從室溫到910℃（真空下）對粉末進行漫反射光譜分析，可用于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)等分析應(yīng)用
