Harrick漫反射附件，Harrick原位池，Praying Mantis紅外原位附件，通過(guò)傅里葉和紫外可見光譜法對(duì)固體和粉末進(jìn)行漫反射分析，以及在溫度和/壓力控制的環(huán)境中對(duì)催化劑和粉末進(jìn)行分析
Harrick 低溫反應(yīng)室 CHC-CHA-5，CHC-VUV-5, 工作溫度范圍-150°C to 600°C（真空下），非常適合在精確控制的溫度和壓力下研究多相催化、氣-固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)和氧化機(jī)制方面的應(yīng)用
Harrick HVC-DRP-5 高溫反應(yīng)室，HVC-DRM-5 高溫反應(yīng)池，HVC-VUV-5紫外高溫反應(yīng)室，原位高溫附件，HARRICK原位漫反射, 高溫反應(yīng)池，紅外光譜儀催化反應(yīng), 原位池，高溫反應(yīng)室，原位紅外池，HVC-DRP-5 紅外漫反射高溫反應(yīng)室，用于從室溫到910℃（真空下）對(duì)粉末進(jìn)行漫反射光譜分析，可用于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)等分析應(yīng)用
Harrick HVC-MRA-5 拉曼池，拉曼附件，拉曼高溫反應(yīng)室，拉曼反應(yīng)室，拉曼原位池，拉曼裝置，拉曼附件，拉曼高溫反應(yīng)室，拉曼反應(yīng)池，拉曼高溫反應(yīng)池，拉曼光譜池，拉曼池，高溫反應(yīng)室用于拉曼顯微鏡，拉曼光譜儀，拉曼光譜儀反應(yīng)池，原位拉曼樣品池，氣固相拉曼原位反應(yīng)池，原位高溫拉曼反應(yīng)裝置，最高操作壓力到3.44MPA
HARRICK HTC高溫池，HTC高溫透射池，透射附件，高溫透射附件，透射池，固體透射測(cè)量池，HARRICK 高溫池，對(duì)固體樣品進(jìn)行透射測(cè)量研究，檢測(cè)催化和其他氣固化學(xué)相互作用
Harrick HVC-DRP-5 高溫反應(yīng)室，HVC-DRM-5 高溫反應(yīng)池，HVC-VUV-5紫外高溫反應(yīng)室，原位高溫附件，HARRICK原位漫反射, 高溫反應(yīng)池，紅外光譜儀催化反應(yīng), 原位池，高溫反應(yīng)室，原位紅外池，HVC-DRP-5 紅外漫反射高溫反應(yīng)室，用于從室溫到910℃（真空下）對(duì)粉末進(jìn)行漫反射光譜分析，可用于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)等分析應(yīng)用
HARRICK 高溫反應(yīng)室，高溫池，原位高溫附件，HARRICK原位漫反射, HVC-DRM-5 高溫池，高溫反應(yīng)池，紅外光譜儀催化反應(yīng), 原位池，高溫反應(yīng)室，原位紅外池，HVC-DRP-5 紅外漫反射高溫反應(yīng)室，HVC-VUV-5紫外高溫反應(yīng)室，用于從室溫到910℃（真空下）對(duì)粉末進(jìn)行漫反射光譜分析，可用于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)等分析應(yīng)用
美國(guó)Harrick HVC-MRA-5 拉曼反應(yīng)池，拉曼高溫反應(yīng)池，拉曼光譜池，拉曼池，高溫反應(yīng)室用于拉曼顯微鏡，拉曼光譜儀，拉曼光譜儀反應(yīng)池，原位拉曼樣品池，氣固相拉曼原位反應(yīng)池，原位高溫拉曼反應(yīng)裝置，最高操作壓力到3.44MPa
HARRICK HVC-MRA-5 拉曼高溫反應(yīng)池，拉曼反應(yīng)池，拉曼光譜池，拉曼池，高溫反應(yīng)室用于拉曼顯微鏡，拉曼光譜儀，拉曼光譜儀反應(yīng)池，原位拉曼樣品池，氣固相拉曼原位反應(yīng)池，原位高溫拉曼反應(yīng)裝置
Harrick 電池反應(yīng)池，電解液反應(yīng)室，高溫反應(yīng)室適配器，電化學(xué)適配器，原位電池極片反應(yīng)池，適用于研究樣品上的光譜電化學(xué)變化，如太陽(yáng)能電池、固體燃料電池、半導(dǎo)體、電極、催化劑
Harrick HVC-DRM-5 高溫池，高溫反應(yīng)池，原位池，高溫反應(yīng)室，原位紅外池，HVC-DRP-5 紅外漫反射高溫反應(yīng)室，HVC-VUV-5紫外高溫反應(yīng)室，用于從室溫到910℃（真空下）對(duì)粉末進(jìn)行漫反射光譜分析，可用于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)等分析應(yīng)用
Harrick HTC-3-XXX 固體高溫透射附件， 紅外透射附件，High Temperature Cell，透射樣品艙，紅外透射附件，透射附件，允許在500°C以上的環(huán)境溫度下對(duì)固體樣品進(jìn)行光譜研究
harrick HVC-DRM-5 高溫反應(yīng)室 HVC-DRP-5 紅外漫反射高溫反應(yīng)室，HVC-VUV-5紫外高溫反應(yīng)室，用于從室溫到910℃（真空下）對(duì)粉末進(jìn)行漫反射光譜分析，可用于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)等分析應(yīng)用
DiaMaxATR，高性能單反射鉆石ATR，不僅可用于普通實(shí)驗(yàn)室樣品（如液體，粉末，糊劑和固體）的直接紅外光譜分析，還可用于分析極具挑戰(zhàn)性的樣品（如極硬的固體，磨料粉和高腐蝕性液體）
Praying Mantis™ 漫反射配件，高效的漫反射收集系統(tǒng)，可最大程度地減少鏡面反射分量的檢測(cè) 可以配置為使用適當(dāng)?shù)穆瓷浞磻?yīng)室在受控環(huán)境中研究材料和反應(yīng)
反應(yīng)室 美國(guó)Harrick Praying Mantis反應(yīng)室 HVC高溫反應(yīng)室 CHC-CHA低溫反應(yīng)室 HVC-MRA-5拉曼高溫反應(yīng)室 反應(yīng)室 美國(guó)Harrick Praying Mantis反應(yīng)室 HVC高溫反應(yīng)室 CHC-CHA低溫反應(yīng)室 HVC-MRA-5拉曼高溫反應(yīng)室
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