Harrick漫反射附件，Harrick原位池，Praying Mantis紅外原位附件，通過(guò)傅里葉和紫外可見(jiàn)光譜法對(duì)固體和粉末進(jìn)行漫反射分析，以及在溫度和/壓力控制的環(huán)境中對(duì)催化劑和粉末進(jìn)行分析
美國(guó)Harrick Praying Mantis 原位紅外漫反射附件, 紅外原位池，紅外原位附件，紅外漫反射附件，紅外漫反射系統(tǒng)，原位紅外反應(yīng)池，漫反射反應(yīng)池，原位紅外光譜儀附件， 紅外原位反應(yīng)池，紅外附件，是第一個(gè)普遍可用的漫反射附件（DRIFTS），用于通過(guò)FT-IR和UV-VIS光譜法對(duì)固體和粉末進(jìn)行簡(jiǎn)單可靠的漫反射分析，以及在溫度和/或壓力控制的環(huán)境中對(duì)催化劑和其他粉末進(jìn)行分析
美國(guó)HARRICK原位池，原位漫反射附件，低溫反應(yīng)室，低溫紅外附件，CHC-CHA-3紅外低溫池，低溫反應(yīng)池，CHC-VUV-3紫外漫反射低溫反應(yīng)室，紅外漫反射附件，用于在-150°C至600°C對(duì)粉末進(jìn)行漫反射測(cè)量，適用于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)
Harrick CHC-CHA-3低溫反應(yīng)室, CHC-VUV-3 漫反射低溫反應(yīng)室，用于在-150°C至600°C對(duì)粉末進(jìn)行漫反射測(cè)量，適用于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)
DiaMaxATR，高性能單反射鉆石ATR，不僅可用于普通實(shí)驗(yàn)室樣品（如液體，粉末，糊劑和固體）的直接紅外光譜分析，還可用于分析極具挑戰(zhàn)性的樣品（如極硬的固體，磨料粉和高腐蝕性液體）
Praying Mantis™ 漫反射配件，高效的漫反射收集系統(tǒng)，可最大程度地減少鏡面反射分量的檢測(cè) 可以配置為使用適當(dāng)?shù)穆瓷浞磻?yīng)室在受控環(huán)境中研究材料和反應(yīng)
反應(yīng)室 美國(guó)Harrick Praying Mantis反應(yīng)室 HVC高溫反應(yīng)室 CHC-CHA低溫反應(yīng)室 HVC-MRA-5拉曼高溫反應(yīng)室 反應(yīng)室 美國(guó)Harrick Praying Mantis反應(yīng)室 HVC高溫反應(yīng)室 CHC-CHA低溫反應(yīng)室 HVC-MRA-5拉曼高溫反應(yīng)室
室.png?v=1588843089)
樣器.png?v=1588821760)
