Harrick漫反射附件，Harrick原位池，Praying Mantis紅外原位附件，通過傅里葉和紫外可見光譜法對固體和粉末進行漫反射分析，以及在溫度和/壓力控制的環(huán)境中對催化劑和粉末進行分析
Harrick 低溫反應(yīng)室 CHC-CHA-5，CHC-VUV-5, 工作溫度范圍-150°C to 600°C（真空下），非常適合在精確控制的溫度和壓力下研究多相催化、氣-固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)和氧化機制方面的應(yīng)用
HARRICK PRAYING MANTIS 紅外原位池，用于通過FT-IR和UV-VIS光譜法對固體和粉末進行簡單可靠的漫反射分析，以及在溫度和/或壓力控制的環(huán)境中對催化劑和其他粉末進行分析
美國Harrick Praying Mantis 原位紅外漫反射附件, 紅外原位池，紅外原位附件，紅外漫反射附件，紅外漫反射系統(tǒng)，原位紅外反應(yīng)池，漫反射反應(yīng)池，原位紅外光譜儀附件， 紅外原位反應(yīng)池，紅外附件，是第一個普遍可用的漫反射附件（DRIFTS），用于通過FT-IR和UV-VIS光譜法對固體和粉末進行簡單可靠的漫反射分析，以及在溫度和/或壓力控制的環(huán)境中對催化劑和其他粉末進行分析
Harrick HVC-DRP-5 高溫反應(yīng)室，HVC-DRM-5 高溫反應(yīng)池，HVC-VUV-5紫外高溫反應(yīng)室，原位高溫附件，HARRICK原位漫反射, 高溫反應(yīng)池，紅外光譜儀催化反應(yīng), 原位池，高溫反應(yīng)室，原位紅外池，HVC-DRP-5 紅外漫反射高溫反應(yīng)室，用于從室溫到910℃（真空下）對粉末進行漫反射光譜分析，可用于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)等分析應(yīng)用
美國HARRICK原位池，原位漫反射附件，低溫反應(yīng)室，低溫紅外附件，CHC-CHA-3紅外低溫池，低溫反應(yīng)池，CHC-VUV-3紫外漫反射低溫反應(yīng)室，紅外漫反射附件，用于在-150°C至600°C對粉末進行漫反射測量，適用于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)
HARRICK 高溫反應(yīng)室，高溫池，原位高溫附件，HARRICK原位漫反射, HVC-DRM-5 高溫池，高溫反應(yīng)池，紅外光譜儀催化反應(yīng), 原位池，高溫反應(yīng)室，原位紅外池，HVC-DRP-5 紅外漫反射高溫反應(yīng)室，HVC-VUV-5紫外高溫反應(yīng)室，用于從室溫到910℃（真空下）對粉末進行漫反射光譜分析，可用于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)等分析應(yīng)用
美國HARRICK紅外原位池，原位附件，原位池，紅外原位池，PRAYING MANTIS 原位紅外漫反射附件，原位裝置，原位紅外反應(yīng)池，漫反射反應(yīng)池，原位紅外光譜儀附件， 紅外原位反應(yīng)池，紅外附件
HARRICK DRK-4-XXX 紅外原位池，HARRICK PRAYING MANTIS 原位紅外漫反射附件，原位池，原位裝置，原位紅外反應(yīng)池，漫反射反應(yīng)池，原位紅外光譜儀附件， 紅外原位反應(yīng)池，紅外附件
Harrick 電池反應(yīng)池，電解液反應(yīng)室，高溫反應(yīng)室適配器，電化學(xué)適配器，原位電池極片反應(yīng)池，適用于研究樣品上的光譜電化學(xué)變化，如太陽能電池、固體燃料電池、半導(dǎo)體、電極、催化劑
Harrick DRK-4-XXX 紅外原位池，Harrick Praying Mantis 原位紅外漫反射附件，原位池，原位裝置，原位紅外反應(yīng)池，漫反射反應(yīng)池，原位紅外光譜儀附件， 紅外原位反應(yīng)池，紅外附件
HARRICK CHC-CHA-3紅外低溫池，低溫反應(yīng)池，低溫反應(yīng)室, CHC-VUV-3紫外漫反射低溫反應(yīng)室，紅外漫反射附件，用于在-150°C至600°C對粉末進行漫反射測量，適用于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)
Harrick HVC-DRM-5 高溫池，高溫反應(yīng)池，原位池，高溫反應(yīng)室，原位紅外池，HVC-DRP-5 紅外漫反射高溫反應(yīng)室，HVC-VUV-5紫外高溫反應(yīng)室，用于從室溫到910℃（真空下）對粉末進行漫反射光譜分析，可用于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)等分析應(yīng)用
harrick HVC-DRM-5 高溫反應(yīng)室 HVC-DRP-5 紅外漫反射高溫反應(yīng)室，HVC-VUV-5紫外高溫反應(yīng)室，用于從室溫到910℃（真空下）對粉末進行漫反射光譜分析，可用于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)等分析應(yīng)用
Harrick CHC-CHA-3低溫反應(yīng)室, CHC-VUV-3 漫反射低溫反應(yīng)室，用于在-150°C至600°C對粉末進行漫反射測量，適用于多相催化、氣固相互作用、光化學(xué)反應(yīng)
反應(yīng)室 美國Harrick Praying Mantis反應(yīng)室 HVC高溫反應(yīng)室 CHC-CHA低溫反應(yīng)室 HVC-MRA-5拉曼高溫反應(yīng)室 反應(yīng)室 美國Harrick Praying Mantis反應(yīng)室 HVC高溫反應(yīng)室 CHC-CHA低溫反應(yīng)室 HVC-MRA-5拉曼高溫反應(yīng)室
漫反射附件 Harrick Praying Mantis 紅外漫反射附件 FT-IR 附件 紅外附件 原位漫反射附件 原位漫反射紅外 漫反射原位池 紅外原位池 紫外原位池 紅外光譜附件 漫反射附件 Harrick Praying Mantis 紅外漫反射附件 FT-IR 附件 紅外附件 原位漫反射附件 原位漫反射紅外 漫反射原位池 紅外原位池 紫外原位池 紅外光譜附件
